Anlagen für Galvanik und Ätzverfahren Der NBT suncup® ist eine flexible nasschemische Anlage für Anwendungen im Labor und eignet sich hervorragend zur Entwicklung und Prozessoptimierung. Der NBT suncup® kann für alle Arten von galvanischen und nasschemischen Prozessen konfiguriert werden. Substrate werden ohne Halter einseitig bearbeitet, die Rückseite bleibt beim Prozess trocken.
Siebdruck Das sunstence® uni Sieb bietet eine unverzerrte und hochpräzise Linienausrichtung für mehr als 25.000 Druckdurchläufe im Bereich der Solarzellenmetallisierung. Bei PCB-Anwendungen passt sich die Kombination von Emulsion und perforierter Folie an die Topografie des Substrats an und verhindert so den Austritt der Paste aus dem Druckkanal.
Elektrolyte für Galvanik Unser Portfolio beinhaltet außerdem diverse speziell auf die Solarindustrie oder MEMS- und PCB-Anwendungen zugeschnittene Elektrolyte für verschiedene Metalle wie Nickel, Kupfer, Zinn, Silber und Gold.
Ätzchemie Die Startschicht für Galvanikprozesse muss präzise strukturiert werden. Zu diesem Zweck bietet NBT spezielle Ätzlösungen an, die bei minimaler Unterätzung ein großes Spektrum an Selektivität gegenüber vielen Materialien, die üblicherweise in der Photovoltaic oder der MEMS- und PCB-Produktion genutzt werden, aufweisen.
